日本先進光刻機保有量上升，ASML 計劃將駐日維護團隊規(guī)模擴大至 5 倍

IT之家 4 月 3 日消息，《日經(jīng)亞洲》當(dāng)?shù)貢r間昨晚報道稱，在日本半導(dǎo)體制造足跡不斷擴張、先進光刻機保有量持續(xù)上升的趨勢下，ASML 計劃將其駐日維護團隊在未來幾年擴大到當(dāng)前規(guī)模的 5 倍，到 2027 年來到 100 人。

根據(jù)IT之家的了解，日本境內(nèi)至少有三個項目將引入 ASML 提供的 EUV 光刻設(shè)備，分別是 Rapidus 位于北海道千歲市的 IIM 晶圓廠（2nm 邏輯）、美光廣島的內(nèi)存生產(chǎn)線（1-gamma DRAM）和臺積電日本子公司 JASM 的二期晶圓廠（6/7nm 邏輯）。

而若考慮到 DUV 機臺，日本的 ASML 設(shè)備持有規(guī)模將進一步提升。更大的當(dāng)?shù)刂С纸M織能幫助 ASML 在日本客戶提出需求的第一時間響應(yīng)處置，從而減少停機等待時間，降低客戶的損失。